Kineska utrka za tehnološkim suverenitetom u proizvodnji čipova
Godinama Peking masovno ulaže u jačanje vlastite industrije poluvodiča, od dizajna do same proizvodnje. Međutim, analitičari se slažu da glavna prepreka za napredne čipove ostaje EUV litografija, koja je neophodna za proizvodnju poluvodiča manjih od 7 nanometara. Ova tehnologija omogućuje urezivanje ekstremno malih krugova na silicijske pločice pomoću ekstremnog ultraljubičastog svjetla.
Bez ovog procesa, proizvodnja naprednih čipova rezultira sporijim, skupljim i znatno manje učinkovitim rezultatima. U praksi, ova tehnologija označava jasnu granicu između vodećih proizvođača i ostatka tržišta. Prema izvješću South China Morning Posta, znanstvenici u laboratoriju visoke sigurnosti u Shenzhenu razvili su prototip EUV stroja, a tim navodno uključuje i bivše inženjere nizozemskog diva ASML.
Izazovi i složenost ekosustava poluvodiča
Stručnjaci ipak upozoravaju da je ovaj napredak još uvijek daleko od stvarne industrijske proizvodnje. Iako je službeni cilj Kine proizvodnja naprednih čipova ovom tehnologijom do kraja desetljeća, neki analitičari predviđaju realniji scenarij tek oko 2030. godine. Izazov ne leži samo u generiranju EUV svjetla, već i u nevjerojatnoj složenosti cijelog popratnog ekosustava.
- Optika visoke preciznosti: Sustavi koji moraju usmjeravati svjetlost s nevjerojatnom točnošću.
- Laserski sustavi i mehatronika: Integracija stotina tisuća komponenti za savršen rad.
- Kontrola vakuuma: Ekstremni uvjeti potrebni unutar stroja kako bi se izbjegle nečistoće.
Suočena s ograničenjima izvoza zapadne tehnologije, Kina istražuje i alternativne putove, poput intenzivne uporabe DUV litografije (duboki ultraljubičasti valovi). Iako ova strategija omogućuje određeni napredak, ona ne može u potpunosti zamijeniti EUV u smislu vrhunskih performansi i smanjenja troškova. Utrka za dominaciju u litografiji jasno pokazuje koliko su poluvodiči postali ključno strateško pitanje suvremenog svijeta.
